臭氧在半导体和光伏行业中的应用

近年来，人们对更强大芯片的兴趣呈指数级增长。众所周知，所谓的晶圆用于芯片生产。生产高纯度硅板需要采用超清洁制造工艺的高质量标准。

晶圆表面需要非常清洁以提高芯片的质量。在这一点上，化学溶液被用作表面清洁的标准溶液。然而，这些清洁方法已被证明是极其不环保和低效的。相反，在生产过程中使用臭氧已被证明是标准方法的最佳替代方案。除了减少化学品的消耗和相关成本外，工艺性能也得到了提高。

臭氧在半导体和光伏行业中的应用

Anseros臭氧系统以低成本高效运行，减少了化学品的使用。

臭氧应用在半导体行业中，用于：

• 湿式清洗

• TEOS

• 化学气相沉积CVD

• 干式清洁

• 疏水性

ANSEROS SC产品的优势和半导体解决方案

• 总体成本

• 符合DIN 19627的臭氧产生系统

• 石英玻璃模块生产无金属臭氧

• 平板放电产生无气泡臭氧

• 无腐蚀臭氧发生器和免维护臭氧测量装置

• 无故障昼夜使用，产品寿命长

• 采用创新UVL技术的高精度、高节能NDUV测量技术

• 使用不锈钢材料组件

• 使用PFA材料组件

• 使用带有触摸面板和不同语言选择的西门子PLC控制

• 带数字接口和数字显示器的数字臭氧分析仪和发生器

• 快速运行的臭氧监测仪，可连续不间断的通过报警模块进行安全的臭氧监测

• 通过CE认证
  

• RoHs和REACH认证

为什么选择ANSEROS臭氧产品和解决方案?

• 原创：40年臭氧技术经验
  

• 来自单一来源的臭氧系统（设备的内部和外部通信兼容）

• 高浓度臭氧在DI和RO水中的应用，以及在酸性和湿式化学过程中的应用

• 臭氧系统减少了化学品的使用

• ANSEROS工程团队的专业咨询和规划

• 国际臭氧协会（IOA）、臭氧质量委员会、FIGAWA和DVGW的成员

• AiF Industrieforschung认证

• 全球40多个国家的1000多个客户，出口占比70%

• 全球分销网络和全球服务

• 德国制造和测试

ANSEROS Engineering：用于晶圆加工的DI系统

在生产过程中开始氧化、消毒和消毒过程

通过使用臭氧，特别是在清洁和湿法清洁过程中出现的物质被完全溶解。有机污染物和金属污染物在水相中臭氧含量高的情况下被氧化。因此避免了晶圆上的任何残留物。此外，臭氧技术已经被用于固态无机物质。例如，臭氧用于去除光刻胶和用于硅的氧化。另一方面，在去离子水的处理中进行臭氧消毒，以对抗微生物培养物的出现。

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